观点网讯：10月11日，普达特科技（650.HK）公布半导体设备业务进展，公司自公告日期起共取得29台新设备订单，其中14台为半导体设备新订单，包含单片清洗设备与炉管LPCVD设备。

该等设备系统主要应用于客户的高端特色工艺半导体与第三代半导体产线，覆盖晶圆前后段工艺。

具体来看，订单包括OCTOPUS与OCTOPUS-SP单片清洗设备，用于12寸晶圆背面清洗、Solvent清洗、RCA清洗等工艺，其中含四台硫酸清洗设备；

CUBE单片清洗设备，用于背面清洗与刻蚀工艺；

以及炉管LPCVD设备，用于12寸SiN薄膜沉积工艺。

公告称，该等设备订单均为正式订单，暂未确认收入，公司将在客户通过验证后确认收入。

技术方面，公司自主研发的半导体清洗与炉管LPCVD/ALD设备平台，均可覆盖成熟制程与先进逻辑、存储制程，并已开发190℃先进高温硫酸清洗设备且成功出货。

公司炉管设备平台拥有LPCVD与ALD两大产品线，针对12英寸晶圆SiN、Poly、TEOS等关键薄膜沉积工艺；

此外已完成开发应用于14/7nm节点的Low-K ALD SiOCN炉管设备，该细分领域目前仍由海外设备商垄断。

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